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跃进对溶剂热法制备及其光催化优化处理。

返回列表 来源:未知 发布日期:2021-12-13 11:20【

    设计和合成具有特定形貌和高活性晶 面暴露的无机半导体纳米材料受到了研究者的广 泛关注。在各种半导体材料中,二氧化钛(TiO2)作 为一种宽禁带半导体,因具有生物和化学惰性、成 本低、光生空穴的氧化能力强以及对光化学腐蚀的 长期稳定性等优点,被认为是最有前途的光催化剂 之一 。电热恒温鼓风干燥箱(HGZE‑Ⅱ/H‑ 101‑1型,上海跃进医疗器械有限公司)、磁力加热搅 拌器(HJ‑4型,金坛市城西峥嵘实验仪器厂)、箱式高 温烧结炉(KSL‑1400X‑A1 型,合肥科晶材料技术有 限公司)、电子天平(ESJ200‑4型,沈阳龙腾电子有限 公司)、超声波清洗器(JP‑020型,深圳市洁盟清洗设 备有限公司).



    对于NO‑TiO2样品,在方块状 晶体的上表面观察到晶面间距为0.353 nm的2组晶 格条纹,对应于锐钛矿型 TiO2(101)和(011)晶面,且 该组条纹平行于方块状晶体的 4 个侧面,表明方块 状晶体的4个侧面和上下表面分别暴露的是{101}晶 面和晶面。光致发光光谱能够揭示光催化剂中载流子(电 子和空穴)的迁移和缺陷的形成,有助于了解载流子 在光催化剂表面的重组速率。制备的 FA‑ TiO2、HAc‑TiO2、HF‑TiO2、NO‑TiO2和商业化 BD‑TiO2 在 320 nm 激发下的光致发光光谱,可以看出,所有 样品的光致发光光谱曲线基本一致。TiO2样品的稳 态荧光光谱在 398、408、437、449、468、481、492 和 553 nm 处有强烈的发射峰。